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水處理設(shè)備之實驗室用水標(biāo)準(zhǔn)
發(fā)布于：2019/9/2 8:22:44 點擊量：96
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實驗室用水標(biāo)準(zhǔn)GB6682-2000
水處理設(shè)備|水處理設(shè)備廠家|水處理設(shè)備價格|水處理設(shè)備選型|浙江杭州水處理設(shè)備實驗室用超純水概述
實驗室用超純水對水質(zhì)大都要求比較高，根據(jù)不同的應(yīng)用場合又可分為三個級別用水：一級用水，電阻要求大于10MΩ.cm（電導(dǎo)率低于0.1us/cm),主要用于有嚴(yán)格要求的分析試驗，包括對顆粒有要求的試驗。如高壓液相色譜分析用水。一級水常用二級水經(jīng)過石英設(shè)備蒸餾或反滲透及離子交換混合床處理后，再經(jīng)過0.2μm微孔濾膜過濾來制取。二級用水，電阻要求大于10MΩ（電導(dǎo)率低于0.1us/cm),主要用于無機痕量分析等試驗，如原子吸收光譜分析用水。二級水可用多次蒸餾或反滲透及離子交換等方法制取。三級用水，三級水用于一般化學(xué)分析試驗。三級水可用蒸餾或離子交換等方法制取。水處理設(shè)備|水處理設(shè)備廠家|水處理設(shè)備價格|水處理設(shè)備選型|浙江杭州水處理設(shè)備
制備實驗室用水的常用方法
1、水處理設(shè)備|水處理設(shè)備廠家|水處理設(shè)備價格|水處理設(shè)備選型|浙江杭州水處理設(shè)備蒸餾水
實驗室常用的一種純水，雖設(shè)備便宜，但極其耗能和費水且速度慢，應(yīng)用會逐漸減少。蒸餾水能去除自來水內(nèi)大部分的污染物，但揮發(fā)性的雜質(zhì)無法去除，如二氧化碳、氨、二氧化硅以及一些有機物。新鮮的蒸餾水是無菌的，但儲存后細(xì)菌易繁殖；此外，儲存的容器也很講究，若是非惰性的物質(zhì)，離子和容器的塑形物質(zhì)會析出造成二次污染。
2、水處理設(shè)備|水處理設(shè)備廠家|水處理設(shè)備價格|水處理設(shè)備選型|浙江杭州水處理設(shè)備去離子水：
應(yīng)用離子交換樹脂去除水中的陰離子和陽離子，是運用時間較長的一種傳統(tǒng)用來制取純水的工藝方法，經(jīng)處理后可獲得一定純度的超純水，但水中仍然存在可溶性的有機物，可以污染離子交換柱從而降低其功效，去離子水存放后也容易引起細(xì)菌的繁殖。
應(yīng)用離子交換樹脂去除水中的陰離子和陽離子，是運用時間較長的一種傳統(tǒng)用來制取純水的工藝方法，經(jīng)處理后可獲得一定純度的超純水，但水中仍然存在可溶性的有機物，可以污染離子交換柱從而降低其功效，去離子水存放后也容易引起細(xì)菌的繁殖。
3、水處理設(shè)備|水處理設(shè)備廠家|水處理設(shè)備價格|水處理設(shè)備選型|浙江杭州水處理設(shè)備反滲水：
其生成的原理是水分子在壓力的作用下，通過反滲透膜成為純水，水中的雜質(zhì)被反滲透膜截留排出。反滲水克服了蒸餾水和去離子水的許多缺點，利用反滲透技術(shù)可以有效的去除水中的溶解鹽、膠體，細(xì)菌、病毒、細(xì)菌內(nèi)毒素和大部分有機物等雜質(zhì)。
4、水處理設(shè)備|水處理設(shè)備廠家|水處理設(shè)備價格|水處理設(shè)備選型|浙江杭州水處理設(shè)備超純水：
其標(biāo)準(zhǔn)是水電阻率為18.2MΩ-cm。制取超純水的工藝常采用反滲加離子交換混床或反滲透加電去離子（EDI）來制取，而后者相對前者更經(jīng)濟更環(huán)保。
其生成的原理是水分子在壓力的作用下，通過反滲透膜成為純水，水中的雜質(zhì)被反滲透膜截留排出。反滲水克服了蒸餾水和去離子水的許多缺點，利用反滲透技術(shù)可以有效的去除水中的溶解鹽、膠體，細(xì)菌、病毒、細(xì)菌內(nèi)毒素和大部分有機物等雜質(zhì)。
4、水處理設(shè)備|水處理設(shè)備廠家|水處理設(shè)備價格|水處理設(shè)備選型|浙江杭州水處理設(shè)備超純水：
其標(biāo)準(zhǔn)是水電阻率為18.2MΩ-cm。制取超純水的工藝常采用反滲加離子交換混床或反滲透加電去離子（EDI）來制取，而后者相對前者更經(jīng)濟更環(huán)保。
中國國家實驗室用水GB6682-2000標(biāo)準(zhǔn)
名稱 | 一級 | 二級 | 三級 |
pH范圍（25℃） | －－－ | －－－ | 5.0－7.5 |
電導(dǎo)率（25℃）,ms/m | ≤0.01 | ≤0.10 | ≤0.50 |
比電阻（25℃，MΩ，cm） | ≥10 | ≥1 | ≥0.2 |
可氧化物質(zhì)（以O(shè)計）mg/L | －－－ | ＜0.08 | ＜0.40 |
吸光度（254nm,1cm光程） | ≤0.001 | ≤0.01 | －－－ |
蒸發(fā)殘渣（105±25℃），mg/L | －－－ | ≤1.0 | ≤2.0 |
可溶性硅（以SiO2計），mg/L | ≤0.01 | ≤0.02 | －－－ |
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